新法速递｜国推自愿性认证统规与集成电路布图设计保护新规

本期聚焦两项与企业合规、资质采信及知识产权保护高度相关的新规：一是市场监管总局出台的国推自愿性认证统一管理办法，规范认证市场秩序、强化政策采信；二是国务院全面修订集成电路布图设计保护条例，专有权保护与侵权赔偿力度同步升级。分别给出企业应对要点。

一、市场监管总局《国家统一推行自愿性认证制度管理办法（试行）》（施行日期：2026-09-22）

1. 核心变化

• 市场监管总局以2026年第33号公告发布该办法，自公布之日起施行，首次以专门规章性文件系统规范「国家统一推行自愿性认证制度」（国推自愿认证）。
• 明确由市场监管总局（国家认监委）统一管理、监督、综合协调，会同国务院有关部门共同实施，压实各部门在立项发起、政策采信、协同监管方面的职责，解决以往项目职责不清、协同不足、采信薄弱等问题。
• 立项目标须说明认证领域、必要性与可行性、拟出台采信政策及预期效果；经批准统一编号，并建立实施效果评估机制，强化全过程监管。
• 针对新技术、新业态、新模式设立试点验证机制，鼓励地方结合产业特点出台配套采信政策，推动国推自愿认证项目高质量发展。
• 制度背景：我国现行国推自愿认证共37项，颁发有效证书约241.6万张，占全国质量认证证书总量近56%，覆盖绿色低碳、装备制造、民生服务等领域。

2. 企业/客户应对建议

• 拟申请国推自愿认证（绿色低碳、管理体系、产品、服务等）的企业，应关注对应认证规则更新与采信政策，将相关认证纳入招投标、资质申请与合规评价的前置条件管理。
• 集团型企业可评估将内部面向社会的第三方技术评价活动，按办法转化为国推自愿认证，提升公信力与市场认可度。
• 在投标与合规材料中引用认证证书时，须核验其是否属国推目录及证书有效性，避免因采信口径调整影响资格条件。

二、国务院《集成电路布图设计保护条例（2026年修订）》（施行日期：2026-10-15）

1. 核心变化

• 国务院令第842号公布，自2026年10月15日起施行；共6章54条，系2001年条例实施以来的首次全面修订。
• 扩展保护范围：明确对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计可予保护，并在总体要求中强调诚实信用原则。
• 完善申请与审查程序：规制虚假申请、细化材料要求、完善驳回与撤销程序，并新增权利恢复程序，便利权利人救济。
• 加强专有权保护：明确权利范围界定标准，加大侵权赔偿力度，提升维权确定性。
• 促进布图设计运用：明确奖酬措施，完善转让、许可、出质要求，规范共有人权利行使。

2. 企业/客户应对建议

• 集成电路设计、制造及上下游科技企业，应将布图设计纳入知识产权资产台账，及时办理登记以固定权利、便利维权。
• 研发与采购环节建立布图设计来源审查机制，避免侵权复制与商业利用风险；在许可、合作开发中明确权利归属与创作奖酬。
• 遭遇侵权时，可依据修订后条例主张专有权并请求提高赔偿，注意留存创作完成与首次商业利用的证据材料。

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